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傳統的電解銅粉由于顆粒較大，一般在10um以上，不適合用于制作納米級超細銅粉；霧化法由于抗氧化問題難以解決，難以推廣。除了傳統的電解法和霧化法外，現有制備方法很多，如：物理法(球磨法、氣相蒸汽法、等離子法、y射線輻照一水熱結晶聯合法、冷凍干燥法等)和液相化學還原法。前者成本高，設備昂貴，工藝復雜；目前研究較多的是液相化學還原法。

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在系統調研有關超細銅粉制備方法的基礎上，提出了氧化亞銅（Cu2O）制備—Al(OH)3包覆—低溫氫還原—高溫致密化制備銅粉的新工藝。這是一種形貌和粒徑可控的MLCC電子漿料用銅粉的制備工藝。

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該工藝以氧化亞銅為前驅體，通過包覆、氫還原、高溫致密化工序制得微米和亞微米級銅粉，將對銅粉形貌和粒徑的控制轉化為對氧化亞銅顆粒形貌和粒徑的控制，工藝設備簡單、生產成本低、易于工業化生產。

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納米金屬潤滑添加劑和納米金屬自修復劑：添加0.1~0.6%至潤滑油、潤滑脂中，在摩檫過程中使摩檫副表面形成自潤滑、自修復膜，顯著提高摩擦時的抗磨減摩性能，提高設備使用壽命及維修周期。

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等離子體法分為直流電弧等離子體(DC)法、高頻等離子體(nv)法及混合等離子體(Hybrid plasma)法。DC法使用設備簡單、易操作，生產速度快。幾乎可制備純金屬超細粉，但高溫下電易于熔化或蒸發而污染產物；RF法無電污染、反應速度快、反應區大，廣泛應用于生產超細粉。